電子級三甲基氯硅烷工藝裝置主要由溶解釜、加料釜、反應(yīng)釜、接收罐、堿液釜和渣漿釜等組成。 其主要儀表及管閥件均采用高性能產(chǎn)品，裝置非標(biāo)采用耐腐蝕材質(zhì)。PLC 系統(tǒng)采集確保操作人員安全。 裝置的整體水平要求自動化程度高，數(shù)據(jù)精確度及重復(fù)性好，安全可靠 并能長周期穩(wěn)定運(yùn)行
流程簡述
溶劑將固相溶解后與計(jì)量好的原料一通入反應(yīng)釜反應(yīng)，反應(yīng)生成的輕組分經(jīng)冷卻和二次冷凝收集于接收罐，含渣重相用氣體壓液的方式通入渣漿釜進(jìn)行反應(yīng)，渣漿釜在反應(yīng)前加入要求量的堿液。整個(gè)反應(yīng)液相流經(jīng)采用Φ3/4"管路，氣相采用Φ1/2"管路，具體詳見 PID圖。反應(yīng)“忌氧”，反應(yīng)前系統(tǒng)先抽真空，然后 N2 置換。
工藝流程基本設(shè)計(jì)
1、反應(yīng)釜均采用夾套保溫，反應(yīng)釜攪拌槳槳葉可手動拆卸更換。
2、其余部分設(shè)計(jì)
1) 所有罐的安裝位置離地面有一定的高度，方便操作人員加料放料或排空；
2) 不同物料閥門及管道配備不同顏色的標(biāo)簽，一目了然，方便區(qū)分和操作；
3) 設(shè)備布局合理規(guī)范整齊，符合工藝流程走向的同時(shí)，方便操作和維護(hù)；
4) 所有管道安裝整齊，位置合理，最大限度的減少積液殘留；
5) 設(shè)置低點(diǎn)放空，保證反應(yīng)結(jié)束后裝置內(nèi)無物料殘留；
6) 所有需要操作的設(shè)備和儀器都設(shè)計(jì)在操作人員方便的高度和范圍以內(nèi)；所有壓力表都在操作人員可視的高度和范圍以內(nèi)；
7) 所有工藝部分的器件固定均采用可拆卸的，不采用焊接在框架上的方式，方便裝置的未來升級擴(kuò)充；
8) 裝置的精密部件配置相應(yīng)的保護(hù)措施，如反應(yīng)器配備指針壓力表及壓力傳感器，氣體質(zhì)量流量計(jì)前配備過濾器等保護(hù)措施；
9) 裝置采用鋁型材，結(jié)構(gòu)穩(wěn)固，組合簡單，便于方便移動；
10)裝置整體工藝部分按照用戶空間尺寸設(shè)計(jì)，置于中試車間，控制系統(tǒng)置于旁邊，便于操作。
電子級三甲基氯硅烷工藝裝置
產(chǎn)品型號：
更新時(shí)間：2024-01-04
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